目前
目前国内刻蚀、薄膜沉积设备国产化率约20%，光刻机不到1%，一旦关键设备突破，先进制程扩产会提速。半导体设备国产替代将从概念变业绩。这只$广发中证半导体材料设备ETF发起式联接C(020640)$跟踪中证半导体材料设备指数，聚焦上游设备材料国产替代关键，回调建仓正当时#能源金属概念狂飙！锂电大周期来了？#
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